全球最大半導體設備龍頭 ASML 已著手研發下一代先進微影設備 ，為未來十年的晶片產業做準備 。該公司技術執行副總裁 Jos Benschop 向日經表示 ，這項技術足夠先進 ，爱华外汇官网正规吗可滿足 2035 年之後的製程需求 。
Jos Benschop 表示，ASML 及獨家光學协作夥伴蔡司（Carl Zeiss）目前研究可在單次曝光中印刷出解析度精細到 5 奈米電路的機器設計 ，並補充這項技術將足以滿足 2035 年及之後的產業需求。
ASML 最近才開始出貨業界最先進設備，已可達到單次曝光 8 奈米解析度 。相較之下，AVA外汇平台MT4下载較舊設備須多次曝光才能達到類似解析度 ，不僅效率較低，製造品質也不一定 。
Benschop 表示 ，「我們正與蔡司進行設計研究 ，目標是實現數值孔徑（NA）0.7 或以上的系統 ，目前尚未設定具體上市時間表」。
數值孔徑（NA）是衡量光學系統整理與聚焦光線水平的關鍵指標 ，也是決定電路圖樣能否精細投影到晶圓上的關鍵因素 。當 NA 越大 、光波長越短 ，印刷解析度就越高 。
目前標準 EUV 設備的 NA 為 0.33，新近一代 High NA EUV 則提高至 0.55 。而 ASML 正朝向 NA 0.7 或「超高 NA（Hyper NA）」邁進，需要再次設計幾個關鍵系統。
ASML 目前已向英特爾 、台積電交付首批 High NA EUV 設備 ，不過 Benschop 表示 ，大規模採用仍需時間 ，產業界必須先驗證新系統的性能 ，並開發配套资料與软件 ，才能整体啟動 ，「這次新設備的導入與歷年來推出的創新软件情況類似 ，通常要幾年後才會進入大量產出階段。客戶需要學習如何流程 ，众汇外汇代理但我相信它很快會被用於高產能的晶片製造流程中」 。
（首圖來源 ：ASML）
